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第101节（第1页）

&esp;&esp;换句话说，光刻机所需的反射镜精度必须打磨到万亿分之一米。

&esp;&esp;盛明安：“用硅和钼反复镀膜，直到光线利用率达到国际标准。”

&esp;&esp;当下有?人反驳：“都是?纳米级镀膜，反复镀膜也会影响精度，工艺太难了?！”

&esp;&esp;难度多大？

&esp;&esp;最浅显易懂的比喻便是?将一面直径不?超过四十厘米的反射镜放大至覆盖地面，其平面起伏不?能超过一根头发的直径。

&esp;&esp;而光刻机所需的反射镜多达四五十层，平面精度一层比一层要求更平整。

&esp;&esp;全球只有?德国蔡司这家传承三?代?以上的企业才造得出这种反射镜。

&esp;&esp;当然，反射镜不?对华出口。

&esp;&esp;盛明安：“不?用担忧反射镜能不?能被打磨出来，你们只需要尽己所能考虑反射镜在光的收集和转化率这一单元里，能够被如何利用到极致。”

&esp;&esp;“数据、模型，不?管失败成功，统统记录下来。”

&esp;&esp;盛明安语速打机关枪似的，斩钉截铁、不?容置喙，仿佛难度高到爆表的光源系统在他眼里层次分明、井然有?序，所有?的技术难点都可以被轻松解决。

&esp;&esp;他胸有?成竹，心有?沟壑。

&esp;&esp;他不?必开口安慰，只要用平淡轻松的口气下达每一道指令就能安定实验室每个?人退怯、不?自信的心。

&esp;&esp;“杜颂，打开你的odelica先进?行?初步的超精密激光器建模仿真。”

&esp;&esp;odelica是?一款可实现复杂的物理系统仿真建模的计算机语言软件，可用于光刻机某些超精密部件的仿真建模。

&esp;&esp;杜颂：“已在创建。”

&esp;&esp;他领着自己小组成员低头忙碌。

&esp;&esp;“雷客，你调整一下光路结构。”

&esp;&esp;“好。”雷客示意助手打开opc（光学邻近矫正）软件，通过模型动态仿真结果?计算查找表修正光与图案。

&esp;&esp;盛明安匍匐在桌案，设计市场需求的激光光源，就目前的技术发展而言，光刻机激光光源仍以激光等离子体为主。

&esp;&esp;驱动光源产生的碎屑数量，光谱纯度，每提高一个?技术节点消耗的功率和产能……其实日前最先进?的euv，其功率消耗大、产能低，再过五六年也未能完美解决这两个?问题。

&esp;&esp;可盛明安不?清楚。

&esp;&esp;他虽不?愿用前世记忆盗窃他人成果?提前制造出国产光刻机，可前世是?他完美解决euv产能低的问题，因?此习惯性顺手将这难题归入待解决列表之一。

&esp;&esp;以至于后来一举攻破该技术节点实现反超asl目标，实属意料之外。

&esp;&esp;

&esp;&esp;15年5月份左右，国际半导体发生了?一件大事。

&esp;&esp;asl官网对外发布突破光刻机量产瓶颈，正式对外售出可量产14n极紫外光刻机！

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